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Investigation of the cut location in hydrogen implantation induced silicon surface layer exfoliation
被引：57
作者：
Hochbauer, T.
Misra, A.
Nastasi, M.
Mayer, J.W.
机构：
[1] Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM 87545, United States
[2] Arizona State University, Tempe, AZ 85287-1704, United States
关键词：
D O I：
10.1063/1.1353561
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
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