Feature Vectors Based on Wire Width and Distance for Lithography Hotspot Detection

被引：0

作者：

Kataoka, Gaku ^{[1
]}

Yamamoto, Masahiro ^{[1
]}

Inagi, Masato ^{[1
]}

Nagayama, Shinobu ^{[1
]}

Wakabayashi, Shin’ichi ^{[1
]}

机构：

[1] Hiroshima City University, Hiroshima,731–3194, Japan

来源：

IPSJ Transactions on System LSI Design Methodology | 2023年 / 16卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Feature extraction - Lithography - Semiconductor device manufacture - Vectors

引用

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