Position Control in Lithographic Equipment An Enabler for Current-Day Chip Manufacturing

被引：331
作者：
Butler, Hans
机构：
来源：
IEEE CONTROL SYSTEMS MAGAZINE | 2011年 / 31卷 / 05期
关键词：
D O I：
10.1109/MCS.2011.941882
中图分类号：
TP [自动化技术、计算机技术];
学科分类号：
0812 ;
摘要：
[No abstract available]
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页码：28 / 47
页数：20
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共 7 条
  • [1] BOERLAGE M, 2003, P IEEE C CONTR APPL, P1158
  • [2] Butler H., 1999, Microlithography World, V8
  • [3] Butler H., 2007, P 7 EUSPEN INT C BRE, P153
  • [4] Moore G.E., 1965, ELECT MAGAZINE, P4
  • [5] Sluijk B., 2001, P SOC PHOTO-OPT INS, V4346, P445
  • [6] Extending optical lithography with immersion
    Streefkerk, B
    Baselmans, J
    Gehoel-van Ansem, W
    Mulkens, J
    Hoogendam, C
    Hoogendorp, M
    Flagello, D
    Sewell, H
    Graeupner, P
    [J]. OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XVII, PTS 1-3, 2004, 5377 : 285 - 305
  • [7] ZIMMERMAN P, 2009, SPIE NEWSROOM 0720, DOI DOI 10.1117/12.534009
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