TEFLON APPARATUS FOR VAPOR-PHASE DESTRUCTION OF SILICATE MATERIALS

被引：21

作者：

MITCHELL, JW ^{[1
]}

NASH, DL ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

来源：

关键词：

D O I：

10.1021/ac60338a002

中图分类号：

O65 [分析化学];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：326 / 328

页数：3

共 13 条

[1]

Dolezal J., 1968, DECOMPOSITION TECHNI

[2]

INEZDY J, 1970, PERIOD POLYTECH CHEM, V14, P149

[3]

ISAVE KG, 1960, ANAL ABSTR, V7, P3183

[4]

JANNASCH P, 1918, J CHEM SOC, V114, P460

[5]

JANNASCH P, 1918, J PRAKT CHEM, V97, P150

[6]

KESSLER JE, UNPUBLISHED WORK

[7]

MITCHELL JW, UNPUBLISHED WORK

[8]

MIZUIKE A, 1965, TRACE ANALYSIS PHYSI

[9] ZUR PHOTOMETRISCHEN BESTIMMUNG VON SPUREN BOR IM SILICIUM [J].

POHL, FA ;

KOKES, K ;

BONSELS, W .

FRESENIUS ZEITSCHRIFT FUR ANALYTISCHE CHEMIE, 1960, 174 (01) :6-15

[10]

POHL FA, 1958, CHEM ENG TECH, V30, P347