A NOVEL ANISOTROPIC DRY ETCHING TECHNIQUE

被引：133
作者：
GEIS, MW
LINCOLN, GA
EFREMOW, N
PIACENTINI, WJ
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期
关键词：
D O I：
10.1116/1.571216
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：1390 / 1393
页数：4
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共 5 条
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