STUDY OF NIOBIUM FILMS AT 4.2-K

被引:0
作者
VENDIK, OG
GAIDUKOV, MM
KOZYREV, AV
LEONTEVA, NF
PAVLYUK, EG
POTSAR, NA
SAMOILOVA, TB
机构
来源
FIZIKA TVERDOGO TELA | 1979年 / 21卷 / 11期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
070205 ;
摘要
引用
收藏
页码:3279 / 3282
页数:4
相关论文
共 12 条
[1]  
GERSHENZON ME, 1979, FIZ TVERD TELA+, V21, P700
[2]  
GOLOVASHKIN AI, 1972, KRATKIE SOOBSHCHENIY, P13
[3]  
Kaminskii G. G., 1977, Metallofizika, P100
[4]  
KOMASHKO VA, 1976, ELEKTRONNAYA TEKHN 1, P105
[5]  
Larkin A. I., 1971, Zhurnal Eksperimental'noi i Teoreticheskoi Fiziki, V61, P1221
[6]  
Laska V. L., 1977, Kristall und Technik, V12, P183, DOI 10.1002/crat.19770120214
[7]  
LEDOVSKOI VP, 1977, FIZIKO TEKHNOLOGICHE, P84
[8]   ELECTRICAL CHARACTERISTICS OF RF-SPUTTERED SINGLE-CRYSTAL NIOBIUM FILMS [J].
MAYADAS, AF ;
LAIBOWITZ, RB ;
CUOMO, JJ .
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1972, 43 (03) :1287-+
[9]  
PALATNIK LS, 1972, IZV AN SSSR M, P81
[10]  
Vasil'ev M. A., 1977, Ukrayins'kyi Fizychnyi Zhurnal, V22, P1028