MICROINDENTATION FOR FRACTURE AND STRESS-CORROSION CRACKING STUDIES IN SINGLE-CRYSTAL SILICON

被引:0
作者
WONG, B [1 ]
HOLBROOK, RJ [1 ]
机构
[1] HUGHES AIRCRAFT CO,EL SEGUNDO,CA 90245
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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页码:C126 / C126
页数:1
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