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MECHANISMS OF ELECTRON BEAM EVAPORATION
被引:0
作者
:
MEYER, DE
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0
MEYER, DE
机构
:
来源
:
TRANSACTIONS OF THE METALLURGICAL SOCIETY OF AIME
|
1969年
/ 245卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TF [冶金工业];
学科分类号
:
0806 ;
摘要
:
引用
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页码:593 / &
相关论文
共 3 条
[1]
EFFECTS OF X-RAY IRRADIATION ON CHARACTERISTICS OF METAL-OXIDE-SILICON STRUCTURES - (VOLTAGE SHIFT SURFACE STATES 10 TO 100 KEV E/T)
[J].
COLLINS, DR
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0
COLLINS, DR
;
SAH, CT
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SAH, CT
.
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1966,
8
(05)
:124
-&
[2]
EXPANDED CONTACTS AND INTERCONNEXIONS TO MONOLITHIC SILICON INTEGRATED CIRCUITS
[J].
CUNNINGHAM, JA
论文数:
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引用数:
0
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CUNNINGHAM, JA
.
SOLID-STATE ELECTRONICS,
1965,
8
(09)
:735
-+
[3]
ROZGONYI GA, 1966, VACUUM SCI TECH, V3, P187
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共 3 条
[1]
EFFECTS OF X-RAY IRRADIATION ON CHARACTERISTICS OF METAL-OXIDE-SILICON STRUCTURES - (VOLTAGE SHIFT SURFACE STATES 10 TO 100 KEV E/T)
[J].
COLLINS, DR
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
COLLINS, DR
;
SAH, CT
论文数:
0
引用数:
0
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0
SAH, CT
.
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1966,
8
(05)
:124
-&
[2]
EXPANDED CONTACTS AND INTERCONNEXIONS TO MONOLITHIC SILICON INTEGRATED CIRCUITS
[J].
CUNNINGHAM, JA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
CUNNINGHAM, JA
.
SOLID-STATE ELECTRONICS,
1965,
8
(09)
:735
-+
[3]
ROZGONYI GA, 1966, VACUUM SCI TECH, V3, P187
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