ION IMPLANTATION OF SILICON .I. ATOM LOCATION AND LATTICE DISORDER BY MEANS OF 1.0-MEV HELIUM ION SCATTERING

被引:213
作者
DAVIES, JA
DENHARTO.J
ERIKSSON, L
MAYER, JW
机构
关键词
D O I
10.1139/p67-339
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:4053 / &
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