LOW-TEMPERATURE LASER DEPOSITION OF TUNGSTEN

被引：0

作者：

BLACK, JG ^{[1
]}

DORAN, SP ^{[1
]}

ROTHSCHILD, M ^{[1
]}

EHRLICH, DJ ^{[1
]}

机构：

[1] MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173

来源：

JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS | 1988年 / 17卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：S10 / S10

页数：1

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