ENTHALPY OF VACANCY MIGRATION IN SI AND GE

被引:113
作者
VANVECHTEN, JA [1 ]
机构
[1] BELL TEL LABS, MURRAY HILL, NJ 07974 USA
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.10.1482
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:1482 / 1505
页数:24
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