3-DIMENSIONAL STUDY OF ABSORBED ENERGY DENSITY IN ELECTRON-RESIST FILMS ON SUBSTRATES

被引：21

作者：

MURATA, K ^{[1
]}

NOMURA, E ^{[1
]}

NAGAMI, K ^{[1
]}

KATO, T ^{[1
]}

NAKATA, H ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECT CORP,LSI DEV LAB,ITAMI,HYOGO,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1978年 / 17卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.17.1851

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1851 / 1860

页数：10

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