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- [1] FILMS FROM THE LOW-TEMPERATURE OXIDATION OF SILANE[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1979, 126 (10) : 1728 - 1731TAFT, EA
AN INFRARED-ABSORPTION STUDY OF LTCVD SILICON DIOXIDE
被引：0
作者：
PAVELESCU, C
COBIANU, C
VANCU, A
机构：
[1] SEMICOND CCSITS,CTR RES & DEV,R-72996 BUCHAREST,ROMANIA
[2] IFTM POB MG 7,R-76900 MAGURELE BUCHARES,ROMANIA
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C328 / C328
页数：1
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