THRESHOLD VOLTAGE INSTABILITY OF A-SI-H TFTS IN LIQUID-CRYSTAL DISPLAYS

被引：27

作者：

IBARAKI, N

KIGOSHI, M

FUKUDA, K

KOBAYASHI, J

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3093(89)90385-2

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：138 / 140

页数：3

共 6 条

[1] METASTABLE DEFECTS IN AMORPHOUS-SILICON THIN-FILM TRANSISTORS [J].

HEPBURN, AR ;

MARSHALL, JM ;

MAIN, C ;

POWELL, MJ ;

VANBERKEL, C .

JACKSON, WB ;

AMER, NM .

PHYSICAL REVIEW B, 1982, 25 (08) :5559-5562

[3]

KANEKO Y, 1986, 18TH INT C SOL STAT, P699

POWELL, MJ .

[5] REACTIVE PLASMA DEPOSITED SI-N FILMS FOR MOS-LSI PASSIVATION [J].

SINHA, AK ;

LEVINSTEIN, HJ ;

SMITH, TE ;

QUINTANA, G ;

HASZKO, SE .

[6]

YANAGISAWA T, 1986, 6TH P INT DISPL RES, P192