HYBRID E-BEAM-DEEP-UV EXPOSURE USING PORTABLE CONFORMABLE MASKING (PCM) TECHNIQUE

被引：61

作者：

LIN, BJ

CHANG, THP

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570269

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1669 / 1671

页数：3

共 8 条

[1]

CHANG THP, 1979, Patent No. 165395000

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