SIMPLIFIED EXPRESSION FOR DISTRIBUTION OF DIFFUSED IMPURITY

被引：22

作者：

NAKAJIMA, Y

OHKAWA, S

FUKUKAWA, Y

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1971年 / 10卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.10.162

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：162 / &

相关论文

共 3 条

[1] INTERACTIONS IN SEQUENTIAL DIFFUSION PROCESSES IN SEMICONDUCTORS [J].

HU, SM ;

SCHMIDT, S .

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1968, 39 (09) :4272-+

[2] ARSENIC ISOCONCENTRATION DIFFUSION STUDIES IN SILICON [J].

MASTERS, BJ ;

FAIRFIEL.JM .

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1969, 40 (06) :2390-&

[3] DIFFUSION WITH INTERSTITIAL-SUBSTITUTIONAL EQUILIBRIUM - ZINC IN GAAS [J].

WEISBERG, LR ;

BLANC, J .

PHYSICAL REVIEW, 1963, 131 (04) :1548-&