IN-SITU DOUBLE EXPOSURE INTERFEROMETRY USING PHOTOCONDUCTIVE THERMOPLASTIC FILM

被引：13
作者：
BELLAMY, JC
OSTROWSKY, DB
POINDRON, M
SPITZ, E
机构：
来源：
APPLIED OPTICS | 1971年 / 10卷 / 06期
关键词：
D O I：
10.1364/AO.10.001458
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
摘要：
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页码：1458 / +
页数：1
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