SOLID-STATE EPITAXIAL-GROWTH OF DEPOSITED SI FILMS

被引:56
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作者
VONALLMEN, M [1 ]
LAU, SS [1 ]
MAYER, JW [1 ]
TSENG, WF [1 ]
机构
[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375
关键词
D O I
10.1063/1.91071
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:280 / 282
页数:3
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