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GUNN INSTABILITY IN 2-DIMENSIONAL SEMICONDUCTORS
被引:6
作者
:
KUROSAWA, T
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KUROSAWA, T
NAGAHASHI, S
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NAGAHASHI, S
机构
:
来源
:
JOURNAL OF THE PHYSICAL SOCIETY OF JAPAN
|
1978年
/ 45卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1143/JPSJ.45.707
中图分类号
:
O4 [物理学];
学科分类号
:
0702 ;
摘要
:
引用
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页码:707 / 708
页数:2
相关论文
共 2 条
[1]
DIFFERENTIAL NEGATIVE-RESISTANCE OF N-TYPE INVERSION LAYER IN SILICON MOS FIELD-EFFECT TRANSISTOR
[J].
KATAYAMA, Y
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KATAYAMA, Y
;
YOSHIDA, I
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YOSHIDA, I
;
KOMATSUBARA, KF
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KOMATSUBARA, KF
;
KOTERA, N
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KOTERA, N
.
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1972,
20
(01)
:31
-+
[2]
NEUGEBAUER T, 1977, 2ND INT C EL PROP 2, P267
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共 2 条
[1]
DIFFERENTIAL NEGATIVE-RESISTANCE OF N-TYPE INVERSION LAYER IN SILICON MOS FIELD-EFFECT TRANSISTOR
[J].
KATAYAMA, Y
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KATAYAMA, Y
;
YOSHIDA, I
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YOSHIDA, I
;
KOMATSUBARA, KF
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KOMATSUBARA, KF
;
KOTERA, N
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KOTERA, N
.
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1972,
20
(01)
:31
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[2]
NEUGEBAUER T, 1977, 2ND INT C EL PROP 2, P267
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