GUNN INSTABILITY IN 2-DIMENSIONAL SEMICONDUCTORS

被引:6
作者
KUROSAWA, T
NAGAHASHI, S
机构
关键词
D O I
10.1143/JPSJ.45.707
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:707 / 708
页数:2
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共 2 条
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KATAYAMA, Y ;
YOSHIDA, I ;
KOMATSUBARA, KF ;
KOTERA, N .
APPLIED PHYSICS LETTERS, 1972, 20 (01) :31-+
[2]  
NEUGEBAUER T, 1977, 2ND INT C EL PROP 2, P267