EFFECT OF CHEMICAL RIPENING ON THE PHOTOGRAPHIC RESPONSE TO LIGHT, X-RADIATION AND GAMMA-RADIATION

被引：0
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作者：
NEPELA, DA
NITKA, HF
机构：
来源：
PHOTOGRAPHIC SCIENCE AND ENGINEERING | 1960年 / 4卷 / 01期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
TB8 [摄影技术];
学科分类号：
0804 ;
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