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PROPERTIES OF HIGH-PURITY SILICON EPITAXIAL LAYERS
被引:0
作者
:
SUZUKI, T
论文数:
0
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0
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0
机构:
HITACHI LTD,HITACHI RES LAB,HITACHI,IBARAKI,JAPAN
HITACHI LTD,HITACHI RES LAB,HITACHI,IBARAKI,JAPAN
SUZUKI, T
[
1
]
URA, M
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机构:
HITACHI LTD,HITACHI RES LAB,HITACHI,IBARAKI,JAPAN
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URA, M
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]
OGAWA, T
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机构:
HITACHI LTD,HITACHI RES LAB,HITACHI,IBARAKI,JAPAN
HITACHI LTD,HITACHI RES LAB,HITACHI,IBARAKI,JAPAN
OGAWA, T
[
1
]
机构
:
[1]
HITACHI LTD,HITACHI RES LAB,HITACHI,IBARAKI,JAPAN
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1973年
/ 120卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:C95 / &
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