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DIFFUSION OF OXYGEN IN SILICON
被引：0
作者：
TAKANO, Y
[1
]
MAKI, M
[1
]
机构：
[1] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C97 / &
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