X-RAY MASKS WITH HIGH ASPECT RATIO SUB-MICRON PATTERNS FABRICATED BY USING PLASMA-CVD SIN SPACER AND MEMBRANE

被引：0

作者：

SUZUKI, K

IIDA, Y

MATSUI, J

TORIKAI, T

机构：

[1] NIPPON ELECT CO LTD,BASIC TECHNOL RES LABS,TAKATSU KU,KANAGAWA,JAPAN

[2] NIPPON ELECT CO LTD,OPT ELECTR RES LABS,TAKATSU KU,KANAGAWA,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页数：1