DOMINANT CONTRIBUTION OF PREFERENTIAL RE-SPUTTERING EFFECT ON PERPENDICULAR UNIAXIAL ANISOTROPY IN AMORPHOUS GD-CO FILMS

被引：16

作者：

KATAYAMA, T ^{[1
]}

KOIZUMI, Y ^{[1
]}

HIRANO, M ^{[1
]}

TSUSHIMA, T ^{[1
]}

机构：

[1] ELECTROTECH LAB,TANASHI,TOKYO 188,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JPSJ.42.1057

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：1057 / 1058

页数：2

共 6 条

[1] AMORPHOUS METALLIC FILMS FOR BUBBLE DOMAIN APPLICATIONS [J].

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[2]

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GAMBINO, RJ ;

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CUOMO, JJ .

[4]

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HIRANO, M ;

KATAYAMA, T ;

KOIZUMI, Y ;

KAWAKAMI, M ;

TSUSHIMA, T .

[6] SPUTTERING YIELDS AT VERY LOW BOMBARDING ION ENERGIES [J].

STUART, RV ;

WEHNER, GK .