MULTIPLE BEAM AND WIDE BEAM ION SOURCES

被引：0

作者：

FITCH, RK

RUSHTON, GJ

OSHEA, KR

机构：

来源：

JOURNAL OF PHYSICS E-SCIENTIFIC INSTRUMENTS | 1972年 / 5卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1088/0022-3735/5/7/005

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：622 / &

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共 3 条

[1] LOW-PRESSURE ION-SOURCE [J].

FITCH, RK ;

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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1972, 9 (01) :379-&

[2] A NEW TYPE OF ION SOURCE [J].

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MCILRAITH, AH .

[3] A CHARGED PARTICLE OSCILLATOR [J].

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