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HVEM INSITU OXIDATION BEHAVIOR OF VANADIUM AND V-20 TI
被引：0
作者：
LAWLESS, K
HACKNEY, S
KENIK, E
机构：
[1] UNIV VIRGINIA,CHARLOTTESVILLE,VA 22901
[2] OAK RIDGE NATL LAB,OAK RIDGE,TN 37830
来源：
JOURNAL OF METALS
|
1981年
/
33卷
/
09期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
TF [冶金工业];
学科分类号：
0806 ;
摘要：
引用
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页码：A56 / A56
页数：1
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