FUNDAMENTAL CHARACTERISTICS OF MICROWAVE PLASMA-ETCHING

被引：0

作者：

SUZUKI, K ^{[1
]}

OKUDAIRA, S ^{[1
]}

NISHIMATSU, S ^{[1
]}

USAMI, K ^{[1
]}

KANOMATA, I ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1979年 / 126卷 / 08期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C373 / C373

页数：1

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