ORIENTATION DEPENDENCE OF BORON DIFFUSION

被引：15

作者：

OKAMURA, M

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1970年 / 9卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.9.848

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：848 / &

相关论文

共 2 条

[1] INFLUENCE OF CRYSTAL ORIENTATION ON SILICON SEMICONDUCTOR PROCESSING [J].

BEAN, KE ;

GLEIM, PS .

PROCEEDINGS OF THE IEEE, 1969, 57 (09) :1469-&

[2] ORIENTATION DEPENDENT DIFFUSION OF BORON IN SILICON UNDER OXIDIZING CONDITIONS [J].

WILLS, GN .

SOLID-STATE ELECTRONICS, 1969, 12 (02) :133-&