ANALYSIS OF THERMALLY STIMULATED CAPACITOR DISCHARGE (TSCD) METHOD FOR CHARACTERIZING LOCALIZED STATES IN AMORPHOUS-SEMICONDUCTORS

被引：0

作者：

AGARWAL, SC ^{[1
]}

FRITZSCH.H ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CHICAGO,CHICAGO,IL 60637

来源：

BULLETIN OF THE AMERICAN PHYSICAL SOCIETY | 1974年 / 19卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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