SLOW CAPTURE OF HOLES AND ELECTRONS BY SURFACE STATES ON GERMANIUM AND SILICON AT LOW TEMPERATURES

被引:8
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作者
MORRISON, SR
机构
来源
PHYSICAL REVIEW | 1959年 / 114卷 / 02期
关键词
D O I
10.1103/PhysRev.114.437
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
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页数:8
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