PROXIMITY EFFECT CORRECTIONS IN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引:0
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作者
PARIKH, M [1 ]
机构
[1] IBM CORP, SAN JOSE, CA 95193 USA
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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