TECHNOLOGY OF ION-BEAM SOURCES USED IN SPUTTERING

被引：140

作者：

KAUFMAN, HR

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569569

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：272 / 276

页数：5

共 22 条

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