SHEET RESISTANCE MONITORING OF LOW-DOSE IMPLANTS USING THE DOUBLE IMPLANT TECHNIQUE

被引：3

作者：

SMITH, AK

JOHNSON, WH

KEENAN, WA

RIGIK, M

KLEPPINGER, R

机构：

[1] TRIQUINT SEMICOND,BEAVERTON,OR 97005

[2] RCA CORP,W PALM BEACH,FL 33410

来源：

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS | 1987年 / 21卷 / 2-4期

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(87)90898-6

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

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页码：529 / 536

页数：8

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共 12 条

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