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THERMAL VERSUS PHOTOCHEMICAL DEPOSITION OF SILICON ON SI(100) AND SI(111)
被引：0
作者：
JACOBSON, ML
BATINICA, GJ
ISOBE, C
CHO, HC
CROWELL, JE
机构：
[1] UNIV CALIF SAN DIEGO,DEPT CHEM,LA JOLLA,CA 92093
[2] UNIV CALIF SAN DIEGO,DEPT MAT SCI,LA JOLLA,CA 92093
来源：
ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
|
1994年
/
207卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O6 [化学];
学科分类号：
0703 ;
摘要：
引用
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页码：145 / COLL
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