STOCHASTIC GEOMETRY-EFFECTS IN MOS-TRANSISTORS - COMMENT

被引:0
作者
ZOMBORY, L
机构
[1] Budapest Technical Univ, Hung, Budapest Technical Univ, Hung
关键词
DRAIN CURRENT VARIANCE FORMULATION - EDGE EFFECT - NONRECTANGULAR-GATE MOS TRANSISTORS - OXIDE THICKNESS VARIATION - STOCHASTIC GEOMETRY EFFECTS;
D O I
10.1109/JSSC.1987.1052720
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:303 / 305
页数:3
相关论文
共 4 条