TEMPERATURE EFFECTS FOR TI/GAAS(110) INTERFACE FORMATION INVOLVING CLUSTER AND ATOM DEPOSITION

被引:25
作者
ALDAO, CM
WADDILL, GD
ANDERSON, SG
WEAVER, JH
机构
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1989年 / 40卷 / 05期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.40.2932
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
收藏
页码:2932 / 2939
页数:8
相关论文
共 36 条