NEW HYBRID (E-BEAM-X-RAY) EXPOSURE TECHNIQUE FOR HIGH ASPECT RATIO MICROSTRUCTURE FABRICATION

被引：23
作者：
HATZAKIS, M
HOFER, D
CHANG, THP
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 06期
关键词：
D O I：
10.1116/1.570259
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
页码：1631 / 1634
页数：4
相关论文
共 5 条
[1]  
CHANG THP, 1979, Patent No. 4165395
[2]   REPLICATION OF 0.1-MUM GEOMETRIES WITH X-RAY LITHOGRAPHY [J].
FEDER, R ;
SPILLER, E ;
TOPALIAN, J .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1332-1335
[3]  
HATZAKIS M, 1978, 8 P INT C EL ION BEA, P285
[4]   HYBRID E-BEAM-DEEP-UV EXPOSURE USING PORTABLE CONFORMABLE MASKING (PCM) TECHNIQUE [J].
LIN, BJ ;
CHANG, THP .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1669-1671
[5]  
SPETH AJ, 1975, J VAC SCI TECHNOL, V12, P1238
1