DIFFUSION OF SILICON IN ALUMINUM

被引:169
作者
FUJIKAWA, SI [1 ]
HIRANO, KI [1 ]
FUKUSHIMA, Y [1 ]
机构
[1] TYOTA CENT LAB,NAGOYA 468,JAPAN
来源
METALLURGICAL TRANSACTIONS A-PHYSICAL METALLURGY AND MATERIALS SCIENCE | 1978年 / 9卷 / 12期
关键词
D O I
10.1007/BF02663412
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:1811 / 1815
页数:5
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