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VACUUM ULTRAVIOLET-ABSORPTION OF DOPED SYNTHETIC SIO2
被引：0
作者：
SIGEL, GH
SCHULTZ, PC
机构：
[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375
[2] CORNING GLASS WORKS,CORNING,NY 14830
来源：
AMERICAN CERAMIC SOCIETY BULLETIN
|
1979年
/
58卷
/
03期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
TQ174 [陶瓷工业];
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
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页数：1
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