INFLUENCE OF DEPOSITION RATE ON ELECTRICAL-PROPERTIES OF THIN TELLURIUM-FILMS

被引：15
作者：
DEVOS, A
AERTS, J
机构：
[1] STATE UNIV GHENT, NATL FONDS WETENSCHAPPLIJK ONDERZOEK, B-9000 GHENT, BELGIUM
[2] STATE UNIV GHENT, ELEKTRON MEETTECH LAB, B-9000 GHENT, BELGIUM
来源：
THIN SOLID FILMS | 1977年 / 46卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(77)90066-9
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：223 / 228
页数：6
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