ANALYSIS OF MOSFET DEGRADATION DUE TO HOT-ELECTRON STRESS IN TERMS OF INTERFACE-STATE AND FIXED-CHARGE GENERATION

被引:46
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作者
SHABDE, S
BHATTACHARYYA, A
KAO, RS
MULLER, RS
机构
[1] SIGNET CORP,PHILIPS RES LABS,SUNNYVALE,CA 94088
[2] UNIV CALIF BERKELEY,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(88)90007-X
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:1603 / 1610
页数:8
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