FORMATION AND STRUCTURE OF EPITAXIAL FE-FILMS BY TARGETS-FACING TYPE OF SPUTTERING

被引：6
作者：
JIANG, EY
ZHANG, XX
LI, JE
LIU, YG
机构：
来源：
IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS | 1987年 / 23卷 / 05期
关键词：
D O I：
10.1109/TMAG.1987.1065288
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
引用
收藏
页码：2139 / 2143
页数：5
相关论文
共 1 条
[1]   FACING TARGETS TYPE OF SPUTTERING METHOD FOR DEPOSITION OF MAGNETIC METAL-FILMS AT LOW-TEMPERATURE AND HIGH-RATE [J].
NAOE, M ;
YAMANAKA, SI ;
HOSHI, Y .
IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, 1980, 16 (05) :646-648
1