KINETICS OF CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：7

作者：

SUBRAHMANYAM, J ^{[1
]}

LAHIRI, AK ^{[1
]}

ABRAHAM, KP ^{[1
]}

机构：

[1] INDIAN INST SCI,DEPT MET,BANGALORE 560012,INDIA

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2129905

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1394 / 1399

页数：6

共 10 条

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