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LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF METALS AND INSULATORS
被引:33
作者
:
ALLEN, SD
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0
ALLEN, SD
BASS, M
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BASS, M
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY
|
1979年
/ 16卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.569967
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:431 / 431
页数:1
相关论文
共 2 条
[1]
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF SILICON USING A CO2-LASER
CHRISTENSEN, CP
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CHRISTENSEN, CP
LAKIN, KM
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LAKIN, KM
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1978,
32
(04)
: 254
-
256
[2]
THEORY OF LASER-HEATING OF SOLIDS - METALS
SPARKS, M
论文数:
0
引用数:
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机构:
XONICS INC,VAN NUYS,CA 91406
XONICS INC,VAN NUYS,CA 91406
SPARKS, M
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1976,
47
(03)
: 837
-
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共 2 条
[1]
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF SILICON USING A CO2-LASER
CHRISTENSEN, CP
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LAKIN, KM
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APPLIED PHYSICS LETTERS,
1978,
32
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256
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SPARKS, M
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机构:
XONICS INC,VAN NUYS,CA 91406
XONICS INC,VAN NUYS,CA 91406
SPARKS, M
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1976,
47
(03)
: 837
-
849
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