OPTICAL-EMISSION AND MASS SPECTROSCOPIC STUDIES OF THE GAS-PHASE DURING THE DEPOSITION OF SIO2 AND A-SI-H BY REMOTE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：57
|
作者：
TSU, DV
PARSONS, GN
LUCOVSKY, G
WATKINS, MW
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1989年 / 7卷 / 03期
关键词：
D O I：
10.1116/1.576239
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ; 080502 ;
摘要：
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页码：1115 / 1123
页数：9
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