Mechanical after effect and chemical constitution

被引：111
作者：
Snoek, JL [1 ]
机构：
[1] NV Philips Gloeilampenfabrieken, Nat Kundig Lab, Eindhoven, Netherlands
来源：
PHYSICA | 1939年 / 6卷
关键词：
D O I：
10.1016/S0031-8914(39)90061-3
中图分类号：
O4 [物理学];
学科分类号：
0702 ;
摘要：
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页码：591 / 592
页数：2
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共 5 条
  • [1] KOSTER W, 1929, ARCH EISENHUTTENWES, V3, P637
  • [2] KOSTER W, 1928, ARCH EISENHUTTENWES, V2, P503
  • [3] Richter G, 1938, ANN PHYS-BERLIN, V32, P683
  • [4] RICHTER G, 1937, ANN PHYS GERMANY, V29, P605
  • [5] Magnetic aftereffect and chemical constitution
    Snoek, JL
    [J]. PHYSICA, 1939, 6 : 161 - 170
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