EPITAXIAL GROWTH OF SEVERAL FCC METALS ON KCL KBR AND KI CRYSTALS CLEAVED IN VACUUM

被引：12

作者：

KATO, T

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.7.1162

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1162 / &

共 8 条

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