XPS DETERMINATION OF AMOUNT OF INCORPORATED RARE-GAS IN AMORPHOUS-SILICON FILMS PRODUCED WITH REACTIVE SPUTTERING METHOD

被引：6

作者：

USAMI, K ^{[1
]}

KATAYAMA, Y ^{[1
]}

SHIMADA, T ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO 185,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.19.2065

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2065 / 2068

页数：4

共 5 条

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