EXPOSURE FREQUENCY, AFFECT AND HEMISPHERIC-ASYMMETRY - MATERIAL-SPECIFIC EFFECTS

被引：0

作者：

HELLER, W ^{[1
]}

WILLIAMSON, S ^{[1
]}

MIKKELSON, DE ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,DEPT PSYCHOL,CHAMPAIGN,IL 61820

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

B849 [应用心理学];

学科分类号：

040203 ;

摘要：

引用

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