DOPANT DENSITY AND TEMPERATURE-DEPENDENCE OF ELECTRON-MOBILITY AND RESISTIVITY IN N-TYPE SILICON

被引:194
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作者
LI, SS [1 ]
THURBER, WR [1 ]
机构
[1] NBS,DIV ELECTR TECHNOL,SEMICONDUCT PROCESSING SECT,WASHINGTON,DC 20234
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(77)90100-9
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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